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图片来源：招股书
姜谦，1952年出生，美国国籍，美国布兰迪斯大学博士。曾任麻省理工学院材料科学工程中心研究员；英特尔公司历任金属刻蚀工艺工程师、新电介质材料研究员；美国诺发研发副总裁等。
吕光泉，1965年出生，美国国籍，美国加州大学圣地亚哥分校博士。曾任美国科学基金会尖端电子材料研究中心电子材料副研究员；美国诺发历任高级工程师、PECVD 工艺研发部经理；德国爱思强公司美国SSTS部历任ALD 设备研发及工程设计高级主任等。 
招股书显示，8名董事中包含吕光良、姜谦在内的5名均由拓荆科技员工持股平台提名；杨征帆、王梁由大股东国家集成电路基金提名，分别毕业于英国布里斯托大学硕士、英国巴斯大学硕士；齐雷由二股东国投上海（持股比例18.23%）提名，系中国解放军信息工程大学硕士；尹志晓由第三� ....

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