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　　公告披露，宁波南大光电是国家科技重大专项（02专项）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。经过三年多的组织建设和技术攻关，宁波南大光电已组建一支具有国际水平的先进光刻胶产品开发和产业化队伍；建成年产25吨的ArF（干式和浸没式）光刻胶产品生产线；研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进。 　　光刻胶及配套材料主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，ArF光刻胶材料更是这个领域的先进材料之一，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。 　　南大光电表示，下一步，公司在积极推动ArF光刻胶产业化的同时，还将介入先进光刻胶配套材料的产业链，建立先进光刻胶配套材料的国产化

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