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반도체 초순수 국산화 속도 낸다…민관 협의체 첫 회의

반도체 초순수 국산화 속도 낸다…민관 협의체 첫 회의
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日에 기댄 반도체 세정 초순수 …정부 나서 5년 내 기술독립 선언

日에 기댄 반도체 세정 초순수 …정부 나서 5년 내 기술독립 선언 sns공유 더보기 머니투데이 반도체 실리콘 웨이퍼/사진=머니투데이DB 정부가 반도체 생산에 필요한 초순수(Ultra Pure Water) 생산기술 독립에 나선다. 그동안 초순수 생산과 공급은 대부분 일본에 의존했다. 환경부와 한국수자원공사, 한국환경산업기술원은 고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발 사업을 본격적으로 추진한다고 14일 밝혔다. 정부는 초순수 기술 국산화를 위해 2025년까지 300억원을 지원하기로 했다. 초순수는 수 백개의 반도체 생산 단위공정 중에 나오는 부산물이나 오염물 등을 세정할 때 쓰이는 필수 공업용수이다. 초미세회로로 구성된 반도체를 세척해야 하기 때문에 총유기탄소량(TOC)의 농도가 10억분의 1 (ppb) 이하일 정도로 고순도를 유지해야

반도체 공정용 초순수(水) 국산화 추진

반도체 공정용 초순수(水) 국산화 추진 최상국 기자 환경부, 고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발’ 사업 착수 [아이뉴스24 최상국 기자] 반도체 제조공정에 사용되는 초순수(Ultra pure water) 를 국산화하기 위한 기술개발사업이 민관합동으로 본격 추진된다. 14일 환경부는 한국수자원공사, 한국환경산업기술원과 함께 고순도 공업용수 설계·시공·운영 통합 국산화 기술개발’ 사업에 착수하고, 이를 통해 반도체 사업의 필수원료인 초순수의 생산기술 국산화를 본격적으로 추진한다고 밝혔다. 초순수는 불순물(전해질, 유기물, 미생물, 생균, 미립자, 부유고형물 등)이 0에 가까운 물이다. 반도체, LCD, 태양광 패널 등 정밀산업 분야에 사용된다. 특히 나노미터 급의 초미세회로를 만드는 반도체 생산 공정에서는 전기전도도가 0에

정부, 반도체 초순수 생산기술 국산화 추진…日 의존도 줄인다

정부, 반도체 초순수 생산기술 국산화 추진…日 의존도 줄인다
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