comparemela.com


2020/12/18 09:30
Extending AE’s leadership in process power, this new line of Remote Plasma Sources delivers reliable performance at a broad range of flow rates, increasing productivity in semiconductor process equipment
DENVER, COLORADO - Media OutReach - 18 December 2020 - Advanced
Energy (Nasdaq: AEIS) -- a
global leader in highly engineered, precision power conversion, measurement,
and control solutions -- today announced the launch of its
new MAXstream
TM remote plasma source (RPS) product line for plasma
cleaning of process chambers used in semiconductor device manufacturing. With offerings
available across a broad operating range, the MAXstream line delivers higher
power accuracy, best-in-class plasma ignition and increased reliability, making

Related Keywords

Colorado ,United States ,Denver ,Peter Gillespie ,Shaun Wilson ,Energy Nasdaq ,Semiconductor Products ,Energy Vice ,Chamber Clean Applications ,Energy Launches Maxstream ,Energy Precision ,Remote Plasma Sources ,Media Outreach ,Advanced Energy ,Line For Chamber Clean ,Advanced Energy Vice President ,General Manager ,கொலராடோ ,ஒன்றுபட்டது மாநிலங்களில் ,டென்வர் ,பீட்டர் கில்லெஸ்பி ,ஷான் வில்சன் ,ஆற்றல் நாஸ்டாக் ,குறைக்கடத்தி ப்ராடக்ட்ஸ் ,ஆற்றல் துணை ,அறை சுத்தமான பயன்பாடுகள் ,ஆற்றல் ப்ரிஸிஶந் ,தொலைநிலை பிளாஸ்மா ஆதாரங்கள் ,மீடியா ஔட்‌ரீச் ,வரி க்கு அறை சுத்தமான ,ஜநரல் மேலாளர் ,

© 2024 Vimarsana

comparemela.com © 2020. All Rights Reserved.